中国报告大厅发布的《2025-2030年中国半导体行业竞争格局及投资规划深度研究分析报告》指出,2025年全球半导体产业持续面临供应链重构压力,核心设备国产化进程显著加快。近期,国内微纳光学领域企业苏大维格宣布拟以不超过5.1亿元现金收购常州维普不超过51%股权,目标通过控股方式强化在半导体量检测设备领域的布局。标的公司主营光掩模缺陷检测及晶圆缺陷检测设备,其产品已进入头部晶圆厂和掩膜版厂商的量产线,国产化率不足3%的行业现状为技术突破提供了广阔空间。苏大维格表示,此次收购将直接对接双方重叠的客户资源,缩短半导体光刻机等核心产品的市场验证周期。
半导体制造中,光掩模作为图形转移母版的精度直接影响芯片良率,其缺陷检测技术长期被海外巨头垄断。常州维普的核心产品填补了国内高端检测设备空白:其光掩模缺陷检测设备已通过头部企业产线验证,而晶圆缺陷检测设备则覆盖12英寸先进制程需求。数据显示,2024年全球半导体量测与检测市场规模超100亿美元,国产替代率每提升一个百分点即可释放数亿元市场空间。苏大维格在公告中强调,通过整合常州维普的技术积累,将加速激光直写光刻机等国产设备的产业化进程。
面对连续四年累计亏损6.27亿元的压力(2021-2024年归母净利润分别为-3.5亿、-2.79亿、-0.46亿、-0.58亿),苏大维格亟需通过战略并购优化业务结构。2025年上半年公司虽实现营收9.82亿元(同比+5.27%),但归母净利润仅3066万元,同比下降10.46%,扣非净利更是下滑至1297万元(降幅46.68%)。研发投入与市场费用的持续攀升加剧了盈利压力。此次收购常州维普,既可借助其在半导体设备领域的客户网络快速打开增量市场,也有望通过协同研发降低技术开发成本。
当前全球半导体检测设备领域仍由应用材料、科磊等企业主导,国内厂商需突破高精度光学系统、算法模型等核心技术瓶颈。常州维普虽已实现头部客户导入,但其2024年营收规模尚未披露,市场占有率数据暂不明确。苏大维格作为微纳光学龙头,在光刻胶材料与设备领域具备技术储备,此次并购若成功将形成“材料-设备-检测”产业链闭环,但需应对下游晶圆厂对国产设备稳定性的长期验证压力。
战略协同下的机遇与风险并存
2025年半导体行业在政策支持和技术突破的双重驱动下,国产替代正从基础领域向高端装备延伸。苏大维格通过收购常州维普切入量检测赛道,既符合其“强化半导体业务”的长期战略,也面临整合效率、技术迭代速度等多重考验。若能有效协同双方资源,有望在光掩模与晶圆缺陷检测领域形成国产化标杆案例;反之则可能因市场拓展不及预期进一步加剧财务压力。未来两年将是观察该并购案成败的关键窗口期。
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